0731-84284278
牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)
名稱：其他儀器與工具
品牌：
型號：
簡介：原子層沉積 (ALD) 是一種真正的納米技術(shù), 可以準(zhǔn)確可靠地沉積僅幾個納米厚的超薄薄膜。等離子體可以實(shí)現(xiàn)出色的表面預(yù)處理, 控制薄膜性質(zhì)以及作為種類廣泛的沉積源。 牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng) 可提供遠(yuǎn)程等離子體原子層沉...
申請服務(wù)
- 產(chǎn)品介紹
牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)涵蓋的系列設(shè)備可以滿足學(xué)術(shù)界、企業(yè)研發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)的多種需求。
-
在同一設(shè)備中可靈活使用遠(yuǎn)程等離子體與熱ALD
-
集群式配置保證始終于真空下傳送襯底
-
盒式對盒式操作可提高產(chǎn)能以適于量產(chǎn)
-
對材料和氣體/液體源的選擇具有更大的靈活性
-
等離子體ALD可進(jìn)行低溫工藝
-
使用遠(yuǎn)程等離子體以確保低損傷
-
通過配方驅(qū)動的軟件界面實(shí)現(xiàn)可控的和可重復(fù)的工藝
-
可處理高達(dá)200mm的晶圓
牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)特點(diǎn)
牛津儀器有大量的工藝儲備，并且還在不斷開發(fā)新的工藝。我們?yōu)樗械腁LD設(shè)備提供終身免費(fèi)的、延續(xù)不斷的工藝支持，我們還將為您提供關(guān)于開發(fā)新材料的建議，同時繼續(xù)與您共享包括新工藝配方在內(nèi)的新的ALD工藝進(jìn)展。
氣體/液體源前驅(qū)體模式上 - 一體化手套箱 —— 實(shí)時轉(zhuǎn)換
一體化端口 - 允許添加實(shí)時橢偏儀測量工具
集群式配置 - 始終于真空下傳送襯底
盒式對盒式操作 - 可提高產(chǎn)能以適于量產(chǎn)
機(jī)器手臂與片盒式 - 可處理100mm，150mm或200mm晶圓（無需額外設(shè)備進(jìn)行晶圓交換）
所有系統(tǒng)都可以放置于超凈間內(nèi)或嵌入墻體 - 易于放置
自動化的200mm晶圓真空傳送 - 工藝靈活性
牛津儀器 FlexAL原子層沉積（ALD）系統(tǒng)應(yīng)用
- 納米電子
- 高K柵氧化物
- 存儲電容電介質(zhì)
- 用于Cu互連的高深寬比擴(kuò)散隔層
- 用于OLED和聚合物的無針孔鈍化層
- 用于晶體硅太陽能電池的鈍化
- 用于微流體和MEM的高保形涂層
- 納米多孔結(jié)構(gòu)的涂層
- 生物MEMS
- 燃料電池
- 學(xué)習(xí)
- 原子尺度工藝
最新產(chǎn)品
相關(guān)產(chǎn)品
