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布魯克Bruker IR300 納米級(jí)紅外光譜儀 尺寸圖標(biāo)
名稱：光譜儀
品牌：
型號(hào)：
簡(jiǎn)介：Dimension IconIR300? 大樣品納米紅外系統(tǒng)為半導(dǎo)體應(yīng)用提供高速、高精度的納米級(jí)表征，具有無(wú)與倫比的功能、樣品大小和材料類型靈活性。通過(guò)結(jié)合專有的光熱紅外光譜和納米級(jí)AFM特性映射功能，IconIR300能夠在最廣泛的晶圓和...
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- 產(chǎn)品介紹
Dimension IconIR300? 大樣品納米紅外系統(tǒng)為半導(dǎo)體應(yīng)用提供高速、高精度的納米級(jí)表征，具有無(wú)與倫比的功能、樣品大小和材料類型靈活性。通過(guò)結(jié)合專有的光熱紅外光譜和納米級(jí)AFM特性映射功能，IconIR300能夠在最廣泛的晶圓和光掩模樣品上進(jìn)行自動(dòng)晶圓檢測(cè)和缺陷識(shí)別。該系統(tǒng)顯著地將AFM-IR技術(shù)的應(yīng)用擴(kuò)展到半導(dǎo)體行業(yè)領(lǐng)域，超出了傳統(tǒng)技術(shù)的范圍。
IconIR300 建立在 Dimension IconIR 系統(tǒng)的突破性大樣品架構(gòu)之上，可提供相關(guān)的顯微鏡和化學(xué)成像，以及增強(qiáng)的分辨率和靈敏度。該系統(tǒng)與自動(dòng)化晶圓處理和先進(jìn)的數(shù)據(jù)收集/分析軟件集成，可節(jié)省更多的時(shí)間和成本并提高生產(chǎn)效率。
面向半導(dǎo)體行業(yè)的卓越納米級(jí)紅外光譜和化學(xué)成像
只有尺寸圖標(biāo)IR300系統(tǒng)提供：
全晶圓，無(wú)損測(cè)量200毫米和300毫米晶圓;
使用與FTIR庫(kù)直接相關(guān)的數(shù)據(jù)明確識(shí)別半導(dǎo)體晶圓和光掩模上的有機(jī)和無(wú)機(jī)納米污染物;
無(wú)損臺(tái)階高度測(cè)量和納米級(jí)材料性能映射;和
基于配方的自動(dòng)化測(cè)量和 KLARF 文件支持，便于用戶訪問全面數(shù)據(jù)。
200mm和300mm晶圓的全晶圓測(cè)量
我們獲得專利的獨(dú)特AFM-IR模式套件和專有的峰值力攻絲?特性映射模式，以及IconIR300的大樣品架構(gòu)，為最廣泛的半導(dǎo)體應(yīng)用提供了最大的樣品靈活性。IconIR300 可對(duì)直徑達(dá) 300 mm 的樣品進(jìn)行全晶圓測(cè)量，測(cè)量范圍廣，厚度和材料類型多種多樣，包括：
有機(jī)和無(wú)機(jī)樣品;
圖案化晶圓;
裸晶圓;
光掩模;和
數(shù)據(jù)存儲(chǔ)介質(zhì)晶圓。
此外，表面敏感AFM-IR模式使IconIR300能夠?qū)Τ练e在半導(dǎo)體材料上的聚合物薄膜提供獨(dú)特、可靠的表面敏感化學(xué)測(cè)量。
尺寸 IconIR300 系統(tǒng)在 300 mm 晶圓缺陷檢測(cè)期間的內(nèi)視圖
用于半導(dǎo)體應(yīng)用的最高性能納米級(jí)紅外光譜
在PS-LDPE聚合物共混物的不同位點(diǎn)收集的高質(zhì)量共振增強(qiáng)AFM-IR光譜，說(shuō)明了高度的材料靈敏度和對(duì)納米級(jí)材料特性的更深入洞察
布魯克是基于光熱AFM-IR的納米紅外光譜的創(chuàng)新者，這是納米紅外社區(qū)的首選技術(shù)。
尺寸圖標(biāo)IR300提供：
具有FT-IR相關(guān)性的高精度，豐富，詳細(xì)的光譜，實(shí)現(xiàn)對(duì)薄污染物的納米級(jí)測(cè)量;
各種先進(jìn)的操作模式，支持工業(yè)和學(xué)術(shù)用戶的各種樣品測(cè)量;
最高性能的AFM-IR光譜，半導(dǎo)體應(yīng)用中領(lǐng)先的納米紅外模式;和
對(duì)聚合物薄膜進(jìn)行可靠的表面敏感化學(xué)測(cè)量。
晶圓和光掩模上的最高分辨率化學(xué)成像
Dimension IconIR300 行業(yè)領(lǐng)先的 AFM 性能和布魯克獲得專利的攻絲 AFM-IR 成像共同增強(qiáng)了我們納米紅外技術(shù)的空間分辨率和樣品可及性。
尺寸圖標(biāo)IR300提供：
<10nm化學(xué)空間分辨率，用于對(duì)各種樣品類型進(jìn)行成像，包括軟有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物;
一致、可靠和高質(zhì)量的數(shù)據(jù);和
AFM-IR技術(shù)用于去除任何和所有機(jī)械偽影，確保只收集真實(shí)的化學(xué)成分。
PS-b-PMMA嵌段共聚物在攻絲AFM-IR模式下的高分辨率化學(xué)成像，顯示樣品形貌（a）;1730 （b） 處的紅外圖像;和 1492 cm-1 （c） 分別突出顯示 PMMA 和 PS。圖（b）中的黃色箭頭表示化學(xué)分辨率<10 nm。疊加圖像 （d） 捕獲合成圖。
用于識(shí)別納米污染物的高級(jí)自動(dòng)化
IconIR300 配備了我們專有的 AutoMET? 軟件套件，可實(shí)現(xiàn)多級(jí)自動(dòng)化，用于實(shí)時(shí)和離線對(duì)各種樣品類型的無(wú)損 AFM 測(cè)量。
關(guān)鍵自動(dòng)化功能包括：
臺(tái)階高度研究以及納米級(jí)材料性能映射。
光學(xué)和AFM圖像模式識(shí)別;
尖端居中;
完整的晶圓或網(wǎng)格映射支持;
圖像放置精度在幾十納米以內(nèi);
全面、簡(jiǎn)單的食譜編寫;和
KLARF文件導(dǎo)入功能，支持納米紅外自動(dòng)化功能。
這些功能，加上具有高分辨率紅外光譜的納米級(jí)化學(xué)表征，使學(xué)術(shù)和工業(yè)用戶能夠克服半導(dǎo)體材料傳統(tǒng)缺陷識(shí)別的局限性。
高度圖像（a）和來(lái)自裸硅晶片上污染物的光熱AFM-IR光譜（b）。FTIR 庫(kù)的匹配結(jié)果將污染物標(biāo)識(shí)為聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯。
表面靈敏模式采集表面涂層的光譜信息（綠色曲線），共振增強(qiáng)模式采集體積范圍的信息，包括表面涂層和下層體材料（褐色曲線）
采用布魯克最新專利表面靈敏模式，IconIR將探測(cè)深度從500納米降低到數(shù)十納米，無(wú)需制備截面，無(wú)縫結(jié)合高空間分辨率和高表面靈敏度。
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