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產(chǎn)品簡(jiǎn)介:
儀器中文名稱:脈沖激光沉積系統(tǒng) 儀器所在城市: 長(zhǎng)沙市 儀器型號(hào)規(guī)格: PLD-5000 生產(chǎn)廠商: 美國(guó)PVD公司 國(guó)別: 美國(guó) 購(gòu)置日期(年): 2009-11-1 使用日期(年): 2009-12-1 主要技術(shù)指標(biāo): 真空度可達(dá)10-4Pa;基片加熱溫度可達(dá)800℃;基片和靶材可自轉(zhuǎn);四靶位;配備等離子...
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儀器中文名稱:脈沖激光沉積系統(tǒng)
儀器所在城市: 長(zhǎng)沙市
儀器型號(hào)規(guī)格: PLD-5000
生產(chǎn)廠商: 美國(guó)PVD公司
國(guó)別: 美國(guó)
購(gòu)置日期(年): 2009-11-1
使用日期(年): 2009-12-1
主要技術(shù)指標(biāo): 真空度可達(dá)10-4Pa;基片加熱溫度可達(dá)800℃;基片和靶材可自轉(zhuǎn);四靶位;配備等離子槍
主要附件及功能: 該設(shè)備可用于制備5英寸以內(nèi)各種大面積單層及多層薄膜材料,特別適用制備多組分的電子信息等功能薄膜材料。
本單位該儀器主要應(yīng)用領(lǐng)域:材料
儀器負(fù)責(zé)人: 肖燕
電話: 18975134808
E-mail: accexp@gmail.com
檢測(cè)項(xiàng)目: 制備5英寸以內(nèi)各種單層及多層薄膜材料,特別適用制備多組分的電子信息等功能薄膜材料。
收費(fèi)標(biāo)準(zhǔn): 面議
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